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安定な単一分子素子を再現性良く形成 -分子コンピューター実現に有望な技術を開発-

2019/05/23

東京工業大学 理学院 化学系の原島崇徳大学院生(博士後期課程1年)、西野智昭准教授、筑波大学 小野倫也准教授(現 神戸大学 教授)らの研究グループは、安定な単一分子素子を再現性良く形成する技術の開発に成功した。

この技術の鍵は高分子を使用することにより、安定な構造が形成できたことにある。その結果、従来の技術よりも素子の安定性が21倍と飛躍的に向上することが分かった。さらに、単一分子素子を流れる電流のノイズ量は従来よりも40%低減した。

これまで単一分子を使った素子は形成確率が低く、また容易に破断する欠点があった。今回、開発した技術はこれらを解決するものであり、分子によって構成された電子回路、すなわち分子エレクトロニクスの実現に現実的な道筋を与えるものといえる。

図 高分子を用いて形成された単一分子素子

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